Author Affiliations
Abstract
1 University of Shanghai for Science and Technology, School of Optical-Electrical and Computer Engineering, Engineering Research Center of Optical Instrument and System, Ministry of Education and Shanghai Key Laboratory of Modern Optics System, Shanghai, China
2 Beihang University, School of Instrumentation and Optoelectronic Engineering, Beijing, China
Holographic display stands as a prominent approach for achieving lifelike three-dimensional (3D) reproductions with continuous depth sensation. However, the generation of a computer-generated hologram (CGH) always relies on the repetitive computation of diffraction propagation from point-cloud or multiple depth-sliced planar images, which inevitably leads to an increase in computational complexity, making real-time CGH generation impractical. Here, we report a new CGH generation algorithm capable of rapidly synthesizing a 3D hologram in only one-step backward propagation calculation in a novel split Lohmann lens-based diffraction model. By introducing an extra predesigned virtual digital phase modulation of multifocal split Lohmann lens in such a diffraction model, the generated CGH appears to reconstruct 3D scenes with accurate accommodation abilities across the display contents. Compared with the conventional layer-based method, the computation speed of the proposed method is independent of the quantized layer numbers, and therefore can achieve real-time computation speed with a very dense of depth sampling. Both simulation and experimental results validate the proposed method.
computer holography holographic display diffraction calculation Advanced Photonics Nexus
2024, 3(3): 036001
1 西南科技大学环境友好能源材料国家重点实验室,绵阳 621000
2 山东大学空间科学与物理学院,威海 264200
本文首先通过磁控溅射技术在单晶Si和Al2O3陶瓷衬底上分别依次沉积厚度为600 nm的Cu和Cu55Ni45薄膜,然后使用微加工技术在10 mm×10 mm的衬底区域内制备了200对串联的热电偶组成薄膜热电堆结构,最后采用反应溅射联合硬掩膜沉积了不同厚度的氧化铝热阻层,使串联的热电偶分别产生冷端和热端。根据Seebeck效应,在热流的作用下薄膜热电堆冷热两端的温差使传感器输出热电信号,实现对热流密度的测量。通过对薄膜热电堆的表征与标定,结果表明:沉积在Si衬底与Al2O3陶瓷衬底上的Cu/Cu55Ni45热电堆中,Cu膜粗糙度分别为20和60 nm,Cu55Ni45膜粗糙度分别为15和20 nm,电阻分别为38.2 Ω和2.83 kΩ,灵敏度分别为0.069 45和0.026 97 mV/(kW·m-2)。具有不同表面粗糙度的单晶Si衬底与Al2O3陶瓷衬底会影响在其表面沉积的Cu/Cu55Ni45热电堆表面粗糙度,进而导致薄膜热电堆产生电阻大小差异,此外,Cu/Cu55Ni45热流传感器的输出热电势与热流密度呈现良好的线性关系。
薄膜热电堆 磁控溅射 微加工 Seebeck效应 热流传感器 灵敏度 thin film thermopile magnetron sputtering microfabrication Seebeck effect heat flux sensor sensitivity
上海理工大学 光电信息与计算机工程学院,上海 200093
细胞显微成像是生物学研究中进行细胞表型检测、获取细胞特征信息的重要手段。传统荧光成像技术是目前主要的细胞成像手段,但是荧光成像系统结构复杂、成本较高,而且特异性染色会对细胞造成损伤。针对此问题,研究了一种虚拟染色技术,使用多模态配准算法执行严格配准明场和荧光图像数据集,改进网络架构、损失函数、后处理、硬件适应性用于训练优化,并且通过虚拟染色评价标准对染色转换偏差进行验证。该方法可以降低荧光成像对荧光成像设备的依赖,无需各种复杂的染色操作,将会减轻生物研究、病理分析、疾病诊断流程的负担。
深度学习 细胞成像 虚拟染色 deep learning cellular imaging virtual staining
1 上海理工大学光电信息与计算机工程学院上海市现代光学系统重点实验室,上海 200093
2 上海理工大学光电信息与计算机工程学院光学仪器与系统教育部工程中心,上海 200093
3 东南大学电子科学与工程学院信息显示与可视化国际合作联合实验室,江苏 南京 210096
随着元宇宙概念的逐渐火爆,用于虚拟现实和增强现实(VR/AR)的可穿戴近眼显示设备也获得了巨大的关注。一款终极的VR/AR头戴式设备必须将显示器、传感器和处理器集成在一个紧凑的外壳中,人们可以长时间舒适地佩戴,同时提供良好的沉浸式体验和友好的人机交互体验。面向视觉舒适度的设计理念对于下一代VR/AR设备至关重要。在众多可以提供三维视觉效果的显示技术中,全息显示技术能够提供包含所有三维观看线索的真实自然的三维显示效果,同时由于其衍射成像的特点在人眼视觉像差矫正及保持紧凑外形尺寸等方面都具有独特的优势,成为了未来近眼显示设备的潜在理想技术方案。在这篇综述中,从视觉舒适度的角度调研和总结了全息近眼显示技术的最新进展。首先在视觉感知的背景下介绍了人眼视觉系统,随后对全息近眼显示在动眼眶、视场角、散斑噪声、三维波前计算和全彩色显示等有关视觉舒适度的研究方向进行了全面综述,最后总结和讨论了全息近眼显示技术在未来的潜在应用场景。
成像系统 全息显示 近眼显示 增强现实 三维显示 激光与光电子学进展
2022, 59(20): 2011001
上海理工大学 光电信息与计算机工程学院,上海 200093
微透镜阵列是一种被广泛应用于光信息处理、光传感、光计算、光通信和高灵敏度成像等领域的精密光学元器件之一。通过一些先进的制造技术已经可以制造出不同几何形状、轮廓和光学特性的微透镜阵列。然而,由于三维微制造工艺的难度,使得高填充因子微透镜阵列中的微透镜很难实现紧密排列。提出了一种快速、低成本的微流体操纵技术,用于制备高填充因子微透镜阵列,且对其制备工艺进行了初步的演示。这种易于操作的制造技术适用于微透镜阵列的大批量生产,极大地提高了生产效率。通过预先制备出的三种不同尺寸(微柱直径分别为300、500、700 μm)的微柱,实现了与其对应不同形状和尺寸的微透镜阵列的制备,并搭建了一套光学成像系统以对这些微透镜阵列进行成像性能的评估。主要对微透镜阵列的焦距、成像精度和每个微透镜阵列中各个微透镜子单元成像的均一性进行测试,利用所提出的微流体操控技术制备的微透镜阵列具有良好的成像性能,有望能够被应用到三维成像、光均匀化等诸多应用中。
微透镜阵列 微加工 微流体操控技术 高填充率 microlens array micro-fabrication microfluid-manipulation techniques high-filling-factor 红外与激光工程
2021, 50(10): 20200476
西南科技大学材料科学与工程学院,环境友好能源材料国家重点实验室,绵阳 621010
自旋塞贝克效应是由(亚)铁磁体中的温度梯度引起自旋塞贝克电压信号的现象,目前已成为热自旋电子学研究的热点领域之一。本文采用反应磁控溅射工艺在Si衬底上沉积NiO薄膜,分别研究了溅射功率、氧氩比例、溅射气压、衬底温度对NiO薄膜微观结构和表面形貌的影响,实验中反应磁控溅射最适工艺条件为溅射功率110 W、氧氩比例0.15(O2 15 mL/min; Ar 100 mL/min)、溅射气压0.3 Pa、衬底温度400 ℃。研究了Si/NiO/Pt结构中温度梯度(温差)、磁场角度、NiO厚度变化和Pt厚度变化对自旋塞贝克电压的影响。结果表明,自旋塞贝克电压与温差呈简单的线性关系,温差越大测得的自旋塞贝克电压越高; 磁场角度与自旋塞贝克电压之间满足余弦函数关系式,即在0°和180°时所得自旋塞贝克电压最大,90°和270°时为零; 反铁磁性绝缘层NiO的厚度越大,所测得的自旋塞贝克电压信号越强; 顺磁金属层Pt的厚度越大,自旋塞贝克电压信号越弱。
氧化镍薄膜 自旋塞贝克效应 反应磁控溅射 热自旋电子学器件 反铁磁体 nickel oxide thin film spin Seebeck effect reactive magnetron sputtering thermal spintronics device antiferromagnet
1 西南科技大学材料科学与工程学院, 环境友好能源材料国家重点实验室, 绵阳 621010
2 西南应用磁学研究所, 绵阳 621000
M型钡铁氧体(BaFe12O19, BaM)是一种单轴磁晶各向异性的六角晶系硬磁材料, 由于其具有很强的各向异性场, 因此在自偏置微波器件领域具有广阔的应用前景。本文采用常温射频磁控溅射法在(000l)取向的蓝宝石衬底上沉积了厚度约为130 nm的BaFe12O19非晶薄膜, 然后分别在850 ℃、900 ℃、950 ℃、1 000 ℃对其空气退火处理3 h, 得到BaM晶体薄膜样品。采用X射线衍射仪对薄膜样品进行物相及晶体生长取向鉴别, 采用扫描探针显微镜和扫描电子显微镜对薄膜样品的粗糙度和表面形貌进行测量和观察, 采用振动样品磁强计对样品进行了静态磁性能测试。实验结果表明, 退火后的薄膜样品的主晶相为BaM, 且具有(000l)取向择优生长, 其微观组织结构都表现为C轴垂直于膜面的颗粒状结构。退火温度为900 ℃时所得样品的各项性能达到最佳, 其表面粗糙度为2.8 nm, 矩形比为0.84, 饱和磁化强度为247 emu/cm3, 矫顽力为1 528 Oe。
钡铁氧体 薄膜 射频磁控溅射 退火 磁性 barium ferrite thin film radio frequency magnetron sputtering annealing magnetism